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NF A91-489-2010 铝和铝合金的阳极氧化.在20度,45度,60度或85度角度测量阳极氧化覆层的镜面反射和镜面光泽(ISO7668-2010).

作者:标准资料网 时间:2024-05-05 01:26:36  浏览:8983   来源:标准资料网
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【英文标准名称】:Anodizingofaluminiumanditsalloys-Measurementofspecularreflectanceandspecularglossofanodicoxidationcoatingsatanglesof20degrees,45degrees,60degreesor85degrees(ISO7668:2010).
【原文标准名称】:铝和铝合金的阳极氧化.在20度,45度,60度或85度角度测量阳极氧化覆层的镜面反射和镜面光泽(ISO7668-2010).
【标准号】:NFA91-489-2010
【标准状态】:现行
【国别】:法国
【发布日期】:2010-12-01
【实施或试行日期】:2010-12-24
【发布单位】:法国标准化协会(FR-AFNOR)
【起草单位】:
【标准类型】:()
【标准水平】:()
【中文主题词】:
【英文主题词】:Alloys;Aluminium;Aluminiumalloys;Angles(geometry);Anodic;Anodiccoating;Anodicoxidation;Coatings;Definitions;Degreeofbrightness;Gloss(ofsurface);Incidenceangles;Incidenceoflight;Inorganic;Inspection;Lightmetals;Materialstesting;Measurement;Measuringinstruments;Measuringtechniques;Metalcoatings;Mirrorcoatings;Non-metalliccoatings;Operationangle;Oxidation;Oxidecoatings;Reflectancefactor;Reflectancemeasurement;Reflection;Refractiveindex;Specularreflection;Testequipment;Testreport;Testing
【摘要】:
【中国标准分类号】:
【国际标准分类号】:25_220_20
【页数】:22P;A4
【正文语种】:其他


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基本信息
标准名称:硅基MEMS制造技术 体硅溶片工艺规范
英文名称:Silicon-based MEMS fabrication technology—Specification for dissolved wafer process
中标分类: 电子元器件与信息技术 >> 微电路 >> 微电路综合
ICS分类: 电子学 >> 集成电路、微电子学
发布部门:中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 中国国家标准化管理委员会
发布日期:2012-05-11
实施日期:2012-12-01
首发日期:2012-05-11
作废日期:
主管部门:全国微机电技术标准化技术委员会(SAC/TC 336)
提出单位:全国微机电技术标准化技术委员会(SAC/TC 336)
归口单位:全国微机电技术标准化技术委员会(SAC/TC 336)
起草单位:中国电子科技集团第十三研究所、中机生产力促进中心、北京大学、中国科学院上海微系统与信息技术研究所
起草人:崔波、罗蓉、刘伟、张大成、熊斌、陈海蓉
出版社:中国标准出版社
出版日期:2012-12-01
页数:16页
适用范围

本标准规定了采用体硅溶片加工工艺进行MEMS器件加工时应遵循的工艺要求和工艺评价规范。
本标准适用于体硅溶片工艺的加工和质量检验。

前言

没有内容

目录

前言 Ⅰ 1 范围 1 2 规范性引用文件 1 3 术语和定义 1 4 工艺流程 2 4.1 体硅溶片工艺流程 2 4.2 硅片加工工艺流程 2 4.3 玻璃片加工工艺流程 3 4.4 硅-玻璃键合片工艺流程 4 5 工艺加工能力 4 6 工艺保障条件要求 4 6.1 人员要求 4 6.2 环境要求 4 6.3 设备要求 5 7 原材料要求 6 8 安全操作要求 6 8.1 用电安全 6 8.2 化学试剂 6 8.3 排废 6 9 工艺检验 6 9.1 总则 6 9.2 关键工序检验 7 9.3 最终检验 8 附录A (资料性附录) 体硅溶片关键工序检验方法 10

引用标准

下列文件对于本文件的应用是必不可少的。凡是注日期的引用文件,仅注日期的版本适用于本文件。凡是不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改单)适用于本文件。
GB50073—2001 洁净厂房设计规范
GB/T19022—2003 测量管理体系 测量过程和测量设备的要求
GB/T26111—2010 微机电系统(MEMS)技术 术语

所属分类: 电子元器件与信息技术 微电路 微电路综合 电子学 集成电路 微电子学
基本信息
标准名称:硬质合金 X射线荧光测定金属元素含量 熔融法
英文名称:Hardmetals—Determination of contents of metallic elements by X-ray fluorescence—Fusion method
中标分类: 冶金 >> 金属化学分析方法 >> 粉末冶金分析方法
ICS分类: 冶金 >> 粉末冶金
发布部门:中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 中国国家标准化管理委员会
发布日期:2011-01-10
实施日期:2011-10-01
首发日期:2011-01-10
作废日期:
主管部门:全国有色金属标准化技术委员会(SAC/TC 243)
归口单位:全国有色金属标准化技术委员会(SAC/TC 243)
起草单位:崇义章源钨业股份有限公司
起草人:赵永昌、章秋霖、陈邦明、曾俊力、罗盛任
出版社:中国标准出版社
出版日期:2011-10-01
页数:12页
适用范围

本标准规定了测定碳化物和硬质合金中钴、铬、铁、锰、钼、镍、铌、钽、钛、钨、钒和锆含量的X 射线
荧光分析法。本标准适用于铌、钽、钛、钒、钨和锆的碳化物。
本标准也适用于这些碳化物和粘结金属的混合物。
本标准还适用于用这些碳化物制成的所有牌号的预烧结和烧结硬质合金。

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引用标准

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所属分类: 冶金 金属化学分析方法 粉末冶金分析方法 冶金 粉末冶金