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GB/T 20017-2005 金属和其他无机覆盖层 单位面积质量的测定 重量法和化学分析法评述

作者:标准资料网 时间:2024-05-22 09:54:32  浏览:9062   来源:标准资料网
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基本信息
标准名称:金属和其他无机覆盖层 单位面积质量的测定 重量法和化学分析法评述
英文名称:Metallic and other inorganic coatings—Measurement of mass per unit area—Review of gravimetric and chemical analysis methods
中标分类: 综合 >> 基础标准 >> 材料防护
ICS分类: 机械制造 >> 表面处理和涂覆 >> 表面处理和涂覆综合
发布部门:中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 中国国家标准化管理委员会
发布日期:2005-10-12
实施日期:2006-04-01
首发日期:2005-10-12
作废日期:1900-01-01
主管部门:中国机械工业联合会
提出单位:中国机械工业联合会
归口单位:全国金属与非金属覆盖层标准化技术委员会
起草单位:武汉材料保护研究所
起草人:张德忠、王成、陈晓帆、朱莉
出版社:中国标准出版社
出版日期:2006-04-01
页数:16开, 页数:15, 字数:25千字
计划单号:20031061-T-604
适用范围

本标准等同ISO 10111:2000《金属及其他无机覆盖层 单位面积质量的测定 质量法和化学分析法评述》(英文版)。

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所属分类: 综合 基础标准 材料防护 机械制造 表面处理和涂覆 表面处理和涂覆综合
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基本信息
标准名称:3DG111型NPN硅外延平面高频小功率三极管
英文名称:Detail specification for silicon NPN epitaxial planar high frequency low power transistors,Type 3DG111
中标分类: 能源、核技术 >> 能源、核技术综合 >> 技术管理
发布日期:1974-10-01
实施日期:1974-10-01
首发日期:1900-01-01
作废日期:1900-01-01
出版日期:1900-01-01
页数:8页
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所属分类: 能源 核技术 能源 核技术综合 技术管理
【英文标准名称】:StandardPracticeforDeterminationofUniformityofThinFilmsonSiliconWafers
【原文标准名称】:测定硅片薄膜均匀性的标准规程
【标准号】:ASTMF1618-2002
【标准状态】:作废
【国别】:美国
【发布日期】:2002
【实施或试行日期】:
【发布单位】:美国材料与试验协会(ASTM)
【起草单位】:ASTM
【标准类型】:()
【标准水平】:()
【中文主题词】:薄片;硅氧烷;薄膜
【英文主题词】:thinfilms;wafers;silicones
【摘要】:
【中国标准分类号】:L40
【国际标准分类号】:29_045
【页数】:7P;A4
【正文语种】:英语